半導體、電子行業是目前世界上要求高標準的超純水用戶。超出水制造技術的發展極大地推動了半導體和電子工業的技術進度。同時半導體、電子工業的迅速發展促進了超純水制造技術裝備的發展。

目前先進的制水工藝：

（RO）反滲透 + （EDI）電去離子工藝

（RO）反滲透 + 混床工藝

產水符合電子工業用水 (水質符合美國ASTM標準，電子部超純水水質標準（18MΩ*cm，15MΩ*cm，12MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級)。

電子超純水設備

電子超純水設備應用范圍

半導體工業用超純水、彩色顯像管用高純水、集成電路、精細化工、實驗室。

半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。

制備電子工業用超純水的工藝流程

電子工業制備超純水的工藝大致分成以下3種：

(1)采用離子交換樹脂制備電子工業超純水的傳統水處理方式，其基本工藝流程為：原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→陽床→陰床→混床(復床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點。

(2)采用反滲透水處理設備與離子交換設備進行組合制備電子工業超純水的方式，其基本工藝流程為：原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設備→混床(復床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點。

(3)采用反滲透設備與電去離子(EDI)設備進行搭配制備電子工業超純水的的方式，這是一種制取超純水的最新工藝，也是一種環保，經濟，發展潛力巨大的超純水制備工藝，其基本工藝流程為：原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設備→電去離子(EDI)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點

網站欄目：電子超純水設備應用范圍及工藝流程
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