單晶硅是半導體材料，其性質介于導體和絕緣體之間，是一種具有灰色金屬光澤的單質硅。由于它本身獨有的性質，幾乎不導電，被廣泛應用于信息處理、太陽能等行業當中，是在現代生活極具地位的電子產品的基礎材料之一。超純水設備出水電阻率極高，不含任何雜質，不導電，因此，符合單晶硅的清洗需求，是單晶硅領域的重要設備之一。

單晶硅清洗用超純水設備清洗說明

對于清洗系統和消毒系統而言有四種類型：低pH值型、高pH值型、低濃度氧化消毒清洗型及高溫消毒型。關于低pH值型，高pH值型，低濃水氧化消毒清洗型，及高溫消毒型的描述在下面的內容中作詳細闡述。當需要選擇高溫消毒時，則要啟動高溫消毒程序。

單獨的清洗及消毒程序只針對淡水，濃水及給水管線而言。清洗及消毒的循環過程可獨立完成。獨立的循環程序也可同時進行以減少總的清洗時間。由于極水循環的低清洗流速，大多數情況下清洗過程必須同時與濃水循環清洗和淡水循環清洗同時進行。清洗水箱及水泵是必備的(CIP系統)。總共需要五條清洗流水線：兩個進口(淡水進口和濃水進口)以及三個出口(淡水出口，給水出口和濃水排放)。

單晶硅清洗用超純水設備性能優勢

單晶硅清洗用超純水設備性能優勢數不勝數，其能夠連續穩定的制備品質優良的超純水，不會因為樹脂再生而停止運行，設備結構設計相對靠緊，所以其占地非常小，可以為企業節省很多空間，超純水設備在出廠前均需進行裝置調試，所以設備故障幾率較小，日常保養、維修等操作都非常簡單。

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