半導體清洗用超純水處理工藝流程

任何設備中的整體工藝流程非常嚴謹，需要不同程序相互配合。半導體清洗用超純水的水質也要有嚴格要求，原水經過南方泵的加壓進入四級預處理裝置，預處理能去除水中的鐵銹、大顆料物質。最后經過雙極反滲透裝置可以進一步去除水中的雜質，最后經過半導體清洗用超純水處理工藝最后一道工序微孔過濾器來對水進行深度處理使水達到用水要求。

半導體清洗用超純水標準

關于超純水設備的出水水質有很多標準，對于不同企業生產過程中所用到的純水水質也有所不同。半導體行業要遵循我國電子工業的相關標準，并且還要達到一些國外的水質標準等。而且還能達到美國ASTM標準和德國、日本等標準，并且水質穩定不會造成二次污染。

當前名稱：半導體清洗用超純水處理工藝流程及用水標準介紹
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