電子制造行業超純水設備特點

目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質的要求也越高。

電子行業超純水中除了水分子(H20)外，幾乎沒有什么雜質，更沒有細菌、病毒、含氯二惡英等有機物，當然也沒有人體所需的礦物質微量元素。超純水，是一般工藝很難達到的程度，如水的電阻率大于18MΩ*cm，接近于18.3MΩ*cm則稱為超純水。目前，超純水設備的方法通常采用反滲透，去離子或電去離子(EDI)等工藝。

超純水設備

去離子水/超純水在電子工業主要是線路板、電子元器件生產中的重要作用日益突出，去離子/超純水水質已成為影響線路板、電子元器件產品質量、生產成品率及生產成本的重要因素之一，水質要求也越來越高。在電子元器件生產中，去離子水/超純水主要用作清洗用水及用來配制各種溶液、漿料，不同的電子元器件生產中純水的用途及對水質的要求也不同。

在晶體管、集成電路生產中，超純水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，硅片氧化的水汽源，部分設備的冷卻水，配制電鍍液等。集成電路生產過程中的80%的工序需要使用高純水清洗硅片，水質的好壞與集成電路的產品質量及生產成品率關系很大。水中的堿金屬（K、Na等）會使絕緣膜耐壓不良，重金屬（Au、Ag、Cu等）會使PN結耐壓降低，Ⅲ族元素（B、Al、Ga等）會使N型半導體特性惡化，Ⅴ族元素（P、As、Sb等）會使P型半導體特性惡化，水中細菌高溫碳化后的磷（約占灰分的20-50%）會使P型硅片上的局部區域變為N型硅而導致器件性能變壞，水中的顆粒（包括細菌）如吸附在硅片表面，就會引起電路短路或特性變差。

電子超純水設備是保證電子產品質量安全促進電子業健康運行的依據，電子超純水設備適用集成電路生產中高純水清洗硅片、半導體材料、晶元材料生產、加工，純水一號的電子工業設備廣泛的用于在電子業中，而且在電子業中的地位更是蒸蒸日上成為業內發展的主導者。

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